Магазин масок - Mask shop

А магазин масок завод, который производит фотошаблоны для использования в полупроводниковая промышленность. В торговле встречаются два различных типа. Магазины масок для пленников являются собственностью крупнейших полупроводниковых корпораций, а магазины масок делать маски для большей части промышленности.

Магазины торговых масок будут производить фотошаблоны для различных производители интегрированных устройств (IDM), литейные заводы или компании, производящие оптические устройства, в дополнение к выполнению дополнительных работ по замене полостипленка для магазинов с масками.

Структура компании аналогична структуре любого среднего производства и состоит из следующих уникальных отделов или производителей масок:

Отдел продаж / обслуживание клиентов
Подготовка данных переднего плана
Техническое обслуживание объектов - установка и окружающая среда
Инжиниринг - обслуживание оборудования
Инжиниринг - процессы, контроль и метрология
Гарантия качества
Доставка и отправка

Рынок фотошаблонов

Мировой рынок производства фотошаблонов в 2013 году составил 3,1 миллиарда долларов. Почти половина рынка приходилась на магазины специальных масок (собственные магазины масок основных производителей микросхем).^[1]

Инфраструктура (техническая и финансовая)

Затраты на создание нового цеха масок для процессов 180 нм оценивались в 2005 году в 40 миллионов долларов, а для 130 нм - более чем в 100 миллионов долларов.^[2] В 2013 году стоимость нового цеха масок 28 нм оценивалась в 110–140 миллионов долларов.^[3]

По состоянию на 2006 г. затраты на создание базового магазина масок продавца небольшого объема для производства продукции со спецификацией 65 нм (только инструменты, нет чистая комната объект или подготовка данных) представляет собой следующее:^{[нужна цитата ]}

Пустая проверка: Lasertec $ 3 млн.
Маска писателя (литография) Toshiba 5000 или Hitachi HL-8000 EB 14 миллионов долларов
Писатель масок 2-й проход PSM: ALTA 4300 Laser. $ 8 млн
Resist Coat: Sigmameltec CTS 7000 $ 3 млн.
PEB и разработчик: HamaTech-APE Masktrack $ 2,8 млн.
Plasma Etch: Unaxis Mask Etcher IV - 4 миллиона долларов
ВЧ травление: SigmaMeltec SFH 3000 1,3 млн долл. США
Метрология компакт-дисков: Leica LWM 250 DUV и AMAT NanoSEM 3D $ 2 млн.
Метрология изображения: Lasertec MPM 193 и 157 2 млн. Долл. США
Метрология изображения: ZEISS AIMSFAB 193 и 157 $ 2 млн.
Регистрация Leica I-PRO II $ 2,5 млн
Проверка дефектов: KLA-Tencor SLF87 $ 10 млн.
Проверка дефектов: AMAT Aera193 $ 10 млн.
Ремонт дефектов: Seiko 5000 $ 4,5 млн.
Ремонт дефекта: RAVE nm1300 $ 5,5 млн
Резист-лента: SigmaMeltec MRC 7500 $ 3 млн.
Точность очистки: HamaTech-APE MaskTrack $ 3,5 млн.
Установка и обслуживание прочего прочего оборудования $ 8 млн.

Итого 88 млн долларов

Этот комплект оборудования может производить примерно пять 65 нм сетки в день.

Затраты на строительство подходящего завода, завода и чистая комната будет зависеть от местоположения, но может стоить около 20–30 миллионов долларов.CATS (программное обеспечение) лицензирование до 1 миллиона долларов в зависимости от форматов и потоков.

Из-за высоких затрат на оснащение таких предприятий новым оборудованием многие предприятия второго уровня и производственные предприятия покупают бывшее в употреблении оборудование для удовлетворения своих потребностей. Например, отпускная цена на KLA-Tencor SLF87 у такого реселлера подержанного оборудования составляет около 1/10 от новой продажной цены.

Будущее

По мере того, как технологии сокращаются, стоимость маскировки магазинов увеличивается, а время оборота продукта также увеличивается. В этом новом десятилетии наблюдается тенденция к миграции производства на восток с целью сокращения затрат и сокращения сроков выполнения заказов. Когда-то технологические ограничения в Вассенаарская договоренность уменьшены, высокий конец сетки и интегральные схемы будет производиться в материковый Китай скорее, чем Тайвань.^{[нужна цитата ]}

Смотрите также

Вычислительная литография

дальнейшее чтение

Ризви, Сайед (2005). Справочник по технологии изготовления фотошаблонов. CRC Press. п. 728. ISBN 9781420028782.

внешняя ссылка

Оценка индустрии масок: 2009 г. // Proc. SPIE 7488, Photomask Technology 2009, 748803 (29 сентября 2009 г.); DOI: 10.1117 / 12.832722
Обзор индустрии масок 2013 г. // Proc. SPIE 8880, Photomask Technology 2013, 88800K (20 сентября 2013 г.); DOI: 10.1117 / 12.2033255
Обзор индустрии фотошаблонов SEMATECH подтверждает основные проблемы отрасли и определяет долгосрочные возможности // ОЛБАНИ Н.Ю. (24 сентября 2013 г.)

[1] Трейси, Дэн; Дебора Гейгер (14 апреля 2014 г.). «SEMI сообщает о продажах полупроводниковых фотошаблонов за 2013 год на 3,1 миллиарда долларов». ПОЛУ. Получено 6 сентября 2014.

[2] Анализ экономики производства фотошаблонов Часть - 1: Экономическая среда, Вебер, 9 февраля 2005 г. Слайд 6 "Перспектива магазина масок"

[3] Хейс, Кэролайн (23 сентября 2013 г.). «Новости EDA-IP. Фотошаблон, Золушка индустрии». ЧипДизайнМаг. Получено 3 декабря 2015.

[1]

[2]

[3]